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当前标签：磁控溅射

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分类：磁控溅射

磁控溅射镀膜系统的原理是什么？

2020-07-21

磁控溅射镀膜的原理是在电场的作用下，由异常辉光放电产生的等离子体被轰击在阴极靶的表面上，并且靶表面上的分子，原子，离子和电子被溅射并溅起。所发射的颗粒具有一定的动能，并且沿一定的方向被导向基板的外表面，以在基板的表面上形成镀层。溅射涂层开始

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磁控溅射镀膜仪的用途

2020-07-21

为了解决阴极溅射的缺陷，人们在20世纪70年代开发出了磁控溅射镀膜仪，它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点，由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的，因而溅射出来的原子能量高，有利于提高沉积时原子

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磁控溅射系统的工作原理

2020-07-21

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效

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浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类

2020-07-21

溅镀，通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜系统要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(

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关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

2020-07-21

磁控溅射镀膜系统的操作规范：1.正常工作的磁控溅射镀膜系统在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜系统运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜系统的电

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你知道磁控溅射镀膜系统要跟哪些行业有关联吗？

2020-07-21

在镀膜行业中，磁控溅射镀膜仪是地位相当特殊的一种设备。其出现的时候大幅度晚于其他类型的镀膜设备，诸如真空镀膜机、离子镀膜机的规划出产时刻都早于磁控溅射镀膜设备。但在世纪的职业使用之中，磁控溅射镀膜设备的使用规模却并不小于上述两者，甚至在某些

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磁控溅射镀膜系统的原理是什么？

磁控溅射镀膜仪的用途

磁控溅射系统的工作原理

浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类

关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

你知道磁控溅射镀膜系统要跟哪些行业有关联吗？